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盛美上海:為硅片和碳化硅襯底制造推出新型預(yù)清洗設(shè)備 擁有每小時60片晶圓的最大產(chǎn)能

2022-07-14 09:45:39  來源:證券時報

盛美上海消息,公司今日推出新型化學(xué)機械研磨后(Post-CMP)清洗設(shè)備。這是公司的第一款Post-CMP清洗設(shè)備,用于制造高質(zhì)量襯底化學(xué)機械研磨(CMP)工藝之后的清洗。該清洗設(shè)備6英寸和8英寸的配置適用于碳化硅(SiC)襯底制造;8英寸和12英寸配置適用于硅片制造。該設(shè)備有濕進干出(WIDO)和干進干出(DIDO)兩種配置,并可選配2、4或6個腔體,擁有每小時60片晶圓的最大產(chǎn)能。

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